简介
《微细加工技术》是《现代加工技术丛书》之一。《微细加工技术》从微细加工技术的基础知识讲起，较为详细地介绍了光学曝光技术、光学分辨率增强技术、电子束光刻技术、X射线光刻技术、极端远紫外光刻技术、刻蚀技术以及其他纳米加工技术。《微细加工技术》较为全面地反映了我国微细加工技术的现状，并在此基础上介绍了国际微细加工的先进技术及其发展趋势，是从事微细加工技术的科研人员、本科生、研究生以及对微电子感兴趣的人员的参考书。
目录
"第1章 微细加工技术简介
1.1 微细加工技术的发展历程
1.2 微细加工技术的发展趋势
1.3 微细加工装备的研究现状和技术发展趋势
1.4 微细加工工艺的基本流程
1.5 微细加工技术面临的挑战
第2章 光学曝光技术
2.1 接触式和接近式曝光技术
2.2 光学投影成像曝光技术
2.3 光致抗蚀剂
2.4 光掩模制造技术
2.5 193nm光刻技术
第3章 光学分辨率增强技术
3.1 光学邻近效应校正技术（OPC）
3.2 移相掩模技术（PSM）
3.3 离轴照明技术
3.4 光学曝光技术的局限
第4章 电子束光刻技术
4.1 电子曝光系统概述
4.2 电子束曝光系统的曝光原理
4.3 电子束曝光系统的基本结构
4.4 电子束抗蚀剂
4.5 电子散射与邻近效应
4.6 其他先进的电子束曝光系统第5章 X射线光刻技术
5.1 X射线光刻的发展历史及技术特点
5.2 X射线光刻技术的关键组成部分
第6章 极端远紫外光刻技术
6.1 EUVL的基本原理
6.2 EUVL的光源
6.3 EUVL的成像系统
6.4 EUVL的光刻掩模
6.5 EUVL的光刻技术展望
第7章 刻蚀技术
7.1 湿法刻蚀技术
7.2 干法刻蚀技术
7.3 RIE刻蚀
7.4 ICP刻蚀技术
7.5 今后的发展趋势和待解决的问题
第8章 其他纳米加工技术
8.1 聚焦离子束技术（FIB）
8.2 压印图形转移技术
8.3 三维图形加工技术
8.4 自组织生长技术"
1.1 微细加工技术的发展历程
1.2 微细加工技术的发展趋势
1.3 微细加工装备的研究现状和技术发展趋势
1.4 微细加工工艺的基本流程
1.5 微细加工技术面临的挑战
第2章 光学曝光技术
2.1 接触式和接近式曝光技术
2.2 光学投影成像曝光技术
2.3 光致抗蚀剂
2.4 光掩模制造技术
2.5 193nm光刻技术
第3章 光学分辨率增强技术
3.1 光学邻近效应校正技术（OPC）
3.2 移相掩模技术（PSM）
3.3 离轴照明技术
3.4 光学曝光技术的局限
第4章 电子束光刻技术
4.1 电子曝光系统概述
4.2 电子束曝光系统的曝光原理
4.3 电子束曝光系统的基本结构
4.4 电子束抗蚀剂
4.5 电子散射与邻近效应
4.6 其他先进的电子束曝光系统第5章 X射线光刻技术
5.1 X射线光刻的发展历史及技术特点
5.2 X射线光刻技术的关键组成部分
第6章 极端远紫外光刻技术
6.1 EUVL的基本原理
6.2 EUVL的光源
6.3 EUVL的成像系统
6.4 EUVL的光刻掩模
6.5 EUVL的光刻技术展望
第7章 刻蚀技术
7.1 湿法刻蚀技术
7.2 干法刻蚀技术
7.3 RIE刻蚀
7.4 ICP刻蚀技术
7.5 今后的发展趋势和待解决的问题
第8章 其他纳米加工技术
8.1 聚焦离子束技术（FIB）
8.2 压印图形转移技术
8.3 三维图形加工技术
8.4 自组织生长技术"
微细加工技术
- 名称
- 类型
- 大小
光盘服务联系方式: 020-38250260 客服QQ：4006604884
云图客服：
用户发送的提问，这种方式就需要有位在线客服来回答用户的问题，这种 就属于对话式的,问题是这种提问是否需要用户登录才能提问
Video Player
×
Audio Player
×
pdf Player
×
