简介
《半导体产业背后的故事》遴选了半导体产业发展历史中重要的27项技术发明加以介绍，并着重于技术发明过程背后的一些故事。全书分为27章，内容涉及晶体管、CMOS、集成电路技术、浸没式光刻、干法刻蚀、LED技术、量子霍尔效应、显微技术等。
目录
第1章晶体管的发明
第2章集成电路的发明
第3章LCD技术的发明
第4章CCD和CIS技术的发明
第5章DRAM技术的发明
第6章非易失性存储器
第7章半导体激光器的发明
第8章光纤发展背后的人物故事
第9章太阳能电池的发展史简介
第10章计算机技术与华人
第11章DLP与DMD技术的发明
第12章等离子体刻蚀
第13章浸入式光刻技术
第14章新兴非挥发存储技术NVM
第15章短距离通信系统
第16章MEMS/NEMS
第17章LED发光二极管的创新过程
第18章1+1>2： CMOS器件的发明
第19章肖特基二极管——半导体技术的革新
第20章功率半导体器件和集成电路
第21章薄膜晶体管TFT
第22章量子霍耳效应
第23章微光显微镜
第24章分析显微镜
第25章分子束外延
第26章有机金属化学气相沉积
第27章纳米技术的发展及其应用
第2章集成电路的发明
第3章LCD技术的发明
第4章CCD和CIS技术的发明
第5章DRAM技术的发明
第6章非易失性存储器
第7章半导体激光器的发明
第8章光纤发展背后的人物故事
第9章太阳能电池的发展史简介
第10章计算机技术与华人
第11章DLP与DMD技术的发明
第12章等离子体刻蚀
第13章浸入式光刻技术
第14章新兴非挥发存储技术NVM
第15章短距离通信系统
第16章MEMS/NEMS
第17章LED发光二极管的创新过程
第18章1+1>2： CMOS器件的发明
第19章肖特基二极管——半导体技术的革新
第20章功率半导体器件和集成电路
第21章薄膜晶体管TFT
第22章量子霍耳效应
第23章微光显微镜
第24章分析显微镜
第25章分子束外延
第26章有机金属化学气相沉积
第27章纳米技术的发展及其应用
半导体产业背后的故事
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